金属酸化物表面処理用ホスホン酸誘導体
ホスホン酸誘導体は、Al2O3、TiO2、ZrO2、シリコン酸化膜（SiO2）、マイカ、ステンレス（SS316L）、ニチノール、ヒドロキシアパタイト、ZnO、ITO 等の種々金属酸化物の表面処理・改質剤として、近年、注目されています。これまで用いられてきた有機シラン系の表面処理剤（シランカップリング剤）に比べ、多くの利点を有することから、有機半導体デバイスやバイオセンサ、微粒子修飾など様々な分野で応用され始めています。
Schwartz らは、Ti 酸化膜上に 11-HUPA の SAM を形成して蛍光分子を修飾し、ホスホン酸 SAM が有機シランよりも 4 倍高密度で、アルカリ溶液中で安定性が高いことを示しています。有機シランが Ti 酸化膜上に存在する OH 基としか反応できないのに対し、ホスホン酸誘導体は基板にプロトンを供給することで OH を産生し、高密度に結合すると考えられています
| ＜ホスホン酸 SAM 作製例＞ |
1．基板を界面活性剤水溶液（0.5％ SDS）に浸漬し、20 分間超音波洗浄する。
2．純水、アセトン、エタノールで順次、20 分間超音波洗浄する＊1）。
3．1 mmol/l ホスホン酸誘導体のエタノール溶液に 1 時間浸漬する。
4．エタノールで洗浄後、窒素で風乾する。
5．120℃ で 1 時間加熱処理する＊2）。
＊1） 基板の洗浄は、酸素/プラズマ、UV/オゾン処理などで代替できる。
＊2） 加熱処理により基板の水酸基とホスホン酸の脱水縮合が進み、SAM が安定化する。
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| 品名 |
容量 |
希望納入価格(￥) |
メーカーコード |
| 11-AUPA |
10 mg |
13,800 |
A517 |
| 100 mg |
38,200 |
A517 |
| 10-CDPA |
10 mg |
11,000 |
C490 |
| 100 mg |
30,000 |
C490 |
| FHPA |
10 mg |
9,800 |
F340 |
| 100 mg |
28,000 |
F340 |
| FOPA |
10 mg |
9,800 |
F329 |
| 100 mg |
28,000 |
F329 |
| FDPA |
10 mg |
13,000 |
F330 |
| 100 mg |
36,000 |
F330 |
| 11-HUPA |
10 mg |
11,000 |
H399 |
| 100 mg |
30,000 |
H399 |
| M-EG3-UPA |
10 mg |
13,800 |
M457 |
| 100 mg |
38,200 |
M457 |
| 11-NUPA |
10 mg |
11,000 |
N468 |
| 100 mg |
30,000 |
N468 |
| ODPA |
10 mg |
11,000 |
O407 |
| 100 mg |
30,000 |
O407 |
| 11-PIUPA |
10 mg |
11,000 |
P463 |
| 100 mg |
30,000 |
P463 |
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