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自己組織化単分子膜作製用試薬 アルキルホスホン酸誘導体ホスホン酸誘導体は、Al2O3 1) 、TiO2 2) 、ZrO2 3) 、SiO2 4) 、マイカ 5) 、ステンレス(SS316L) 6) 、ニチノール 7) 、ヒドロキシアパタイト 8) 、ZnO 9) 、ITO 10, 11) 等の種々金属酸化物の表面処理・改質剤として、近年、注目されています。小社ではこのような表面処理用のホスホン酸誘導体 9 種類を発売しております。 <ホスホン酸誘導体の特長> <有機デバイスへの応用例> 更にフッ化アルキル鎖を有するホスホン酸誘導体は ITO の修飾により仕事関数を増加することから、注目を集めています。 Sharma らは ITO 基板を FOPA で修飾することにより、酸素プラズマ処理と同様に、 ITO 基板の仕事関数が増大することを報告しています 10) 。酸素プラズマ処理によって増加した仕事関数はすぐに低下しますが、 FOPA 修飾により増加した仕事関数は安定性が高く、 246 時間後も低下しないことが示されています(Fig. 2)。 また、FOPA 修飾 ITO を用いて作製した有機ELデバイスは発光量、駆動電圧ともにより安定で、長寿命化されています。 <その他の応用例> <試作品のご案内>
参考文献1) (a)T. A. Lewington, M. R. Alexander, G. E. Thompson and E. McAlpine, Surf. Eng., 2002, 18(3), 228. (b)T. Hauffman, O. Blajiev, J. Snauwaert, C. van Haesendonck, A. Hubin and H. Terryn, Langmuir, 2008, 24(23), 13450. 2) (a)B. M. Silverman, K. A. Wieghaus and J. Schwartz, Langmuir, 2005, 21(1), 225. (b)G. Zorn, I. Gotman, E. Y. Gutmanas, R. Adadi, G. Salitra and C. N. Sukenik, Chem. Mater., 2005, 17(16), 4218. (c)E. S. Gawalt, G. Lu, S. L. Bernasek and J. Schwartz, Langmuir, 1999, 15(26), 8929. 3) W. Gao and L. Reven, Langmuir, 1995, 11(6), 1860. 4) (a)E. L. Hanson, J. Schwartz, B. Nickel, N. Koch and M. F. Danisman, J. Am. Chem. Soc., 2003, 125(51), 16074. (b)M. Dubey, I. Gouzman, S. L. Bernasek and J. Schwartz, Langmuir, 2006, 22(10), 4649. (c)I. Gouzman, M. Dubey, M. D. Carolus, J. Schwartz and S. L. Bernasek, Surf. Sci., 2006, 600(4), 773. 5) J. T. Woodward, A. Ulman and D. K. Schwartz, Langmuir, 1996, 12(15), 3626. 6) A. Raman, M. Dubey, I. Gouzman and E. S. Gawalt, Langmuir, 2006, 22, 6469. 7) R. Quinones and E. S. Gawalt, Langmuir, 2008, 24, 10858. 8) S. C. D'andrea and Al. Y. Fadeev, Langmuir, 2003, 19, 7904. 9) B. Zhang, T. Kong, W. Xu, R. Su, Y. Gao and G. Cheng, Langmuir, 2010, 26(6), 4514. 10) A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss and S. R. Marder, Appl. Phys. Lett., 2008, 93, 163308. 11) A. Pulsipher, N. P. Westcott, W. Luo and M. N. Yousaf, J. Am. Chem. Soc., 2009, 131(22), 7626. 12) B. M. Silverman, K. A. Wieghaus and J. Schwartz, Langmuir, 2005, 21, 225. 13) J. Schwartz, M. J. Avaltroni, M. P. Danahy, B. M. Silverman, E. L. Hanson, J. E. Schwarzbauer, K. S. Midwood and E. S. Gawalt, Mat. Sci. Eng. C, 2003, 23, 395. 14) (a)H. Klauk, U. Zschieschang, J. Pflaum and M. Halik, Nature, 2007, 445, 745. (b)T. Sekitani, Y. Noguchi, U. Zschieschang, H. Klauk and T. Someya, Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 2008, 105, 4976. 15) U. Kraft, U. Zschieschang, F. Ante, D. Kalblein, C. Kamella, K. Amsharov, M. Jansen, K. Kern, E. Weberb and H. Klauk, J. Mater. Chem., 2010, 20, 6416. 16) C. A. Traina, A. Christopher and J. Schwartz, Langmuir, 2007, 23(18), 9158. 17) W. Ma, H. Wu, Y. Higaki, H. Otsuka and A. Takahara, Chem. Commun., 2012, 48, 6824. |
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